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紫外线水处理方法及装置专利分类号

 
 
 
申请(专利)号:CN200810099972.5申请日:2008.05.29
公开(公告)号:CN101314488公开(公告)日:2008.12.03
主分类号:C02F1/32(2006.01)I范畴分类:
分类号:C02F1/32(2006.01)I
优先权:2007.5.30 JP 2007-142755
申请(专利权)人:株式会社日立制作所
地址:日本东京都
国省代码:日本;JP
发明(设计)人:山野井一郎;圆佛伊智朗;阴山晃治;日高政隆;隅仓岬;原直树
国际申请:
国际公布:
进入国家日期:
专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司
代理人:李贵亮
分案申请号:
颁证日:

紫外线水处理方法


摘要:
本发明提供一种紫外线水处理方法及装置,其装置构成简单,且装置设置面积小,紫外线不被杂质遮挡,从而可以进行充分的灭活。其具有:将气体加压溶解在被处理水中的加压溶解部(8);从流入口(4)流入通过加压溶解而增加了溶存氧浓度的被处理水的富氧化槽(3);从富氧化槽(3)流出被处理水的流出口(5);通过流出流路(7)与该流出口(5)连接、且对被处理水进行紫外线处理的紫外线处理槽(6);在富氧化槽(3)内利用由回旋流生成部生成回旋流来分离被处理水和微细气泡的气液分离部(13);以及除去在气液分离部(13)与所述微细气泡一起被分离的杂质的杂质除去部(21)。
主权项:
一种紫外线水处理装置,其具有:
将气体加压溶解在被处理水中的加压溶解部;从流入口流入通过该加压溶解部的加压溶解而增加了溶存氧浓度的被处理水的富氧化槽;从该富氧化槽流出被处理水的流出口;通过流出流路与该流出口连接、且对被处理水进行紫外线处理的紫外线处理槽;在该富氧化槽内生成回旋流的回旋流生成部;利用由该回旋流生成部生成的回旋流来分离被处理水和微细气泡的气液分离部;以及除去在该气液分离部与所述微细气泡一起被分离的杂质的杂质除去部。http://www.zgyqcp.cn 



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